描述：

二手日本新柯隆RAS-1100C磁控濺射鍍膜機 鍍膜設(shè)備介紹

光學(xué)鍍膜機常見的鍍膜工藝主要有蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜,具體如下:

蒸發(fā)鍍膜工藝

電阻加熱蒸發(fā)

準(zhǔn)備階段:選擇片狀或絲狀的鎢、鉬、鉭等高熔點金屬做成蒸發(fā)源,將待鍍的光學(xué)元件清洗干凈并固定在鍍膜機的合適位置,同時準(zhǔn)備好需要蒸發(fā)的鍍膜材料,如 CD、Pb、Ag 等。

蒸發(fā)階段:通過大電流通過蒸發(fā)源,產(chǎn)生焦耳熱,直接加熱蒸發(fā)源上的鍍膜材料,或者將膜料放入氧化鋁、氧化鈹?shù)熔釄逯羞M(jìn)行間接加熱蒸發(fā)。

沉積階段:鍍膜材料被加熱蒸發(fā)成氣態(tài)分子,在真空中自由飛行,沉積在光學(xué)元件表面,形成薄膜。

電子束加熱蒸發(fā)

準(zhǔn)備階段:將高純度的鍍膜材料放入水冷坩堝中,把經(jīng)過嚴(yán)格清洗和處理的光學(xué)元件安裝在鍍膜機的基板架上,調(diào)整好電子與坩堝、光學(xué)元件之間的位置和角度。

蒸發(fā)階段:啟動電子,產(chǎn)生高能電子束,電子束在電磁場的作用下聚焦并轟擊坩堝內(nèi)的鍍膜材料,使鍍膜材料吸收電子的動能轉(zhuǎn)化為熱能,迅速升溫至蒸發(fā)溫度。

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