描述：

二手SHINCRON新柯隆RAS-1100濺射鍍膜機/1300蒸發(fā)電鍍機轉(zhuǎn)讓介紹

離子鍍膜工藝

準備階段:將光學元件進行徹底清洗和處理,放入鍍膜機的真空室內(nèi),將蒸發(fā)源和離子源安裝調(diào)試好,準備好鍍膜材料。

離子化與沉積階段:以光學元件為陰極,鍍膜機外殼為陽極,向真空室內(nèi)充入惰性氣體,產(chǎn)生輝光放電,形成等離子體。蒸發(fā)源蒸發(fā)鍍膜材料,蒸發(fā)出來的分子通過等離子體區(qū)域時,被電子碰撞電離,形成正離子。正離子在陰極負電壓的加速作用下,以較高的能量轟擊光學元件表面,并沉積在表面,同時未電離的中性原子也會沉積在光學元件或真空室壁表面。

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