描述：

二手打樣專(zhuān)用磁控濺射光鍍膜機(jī) 磁控電鍍機(jī)400MM介紹

磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī)的工作原理和加工工藝如下:

工作原理

電場(chǎng)加速:在濺射室內(nèi),將靶材作為陰極,待鍍膜的光學(xué)元件(基底)作為陽(yáng)極,在兩極之間施加高電壓,形成電場(chǎng)。電子在電場(chǎng)作用下從陰極(靶材)出發(fā),加速飛向陽(yáng)極(基底)。

磁場(chǎng)約束:在靶材附近設(shè)置磁場(chǎng),電子在電場(chǎng)和磁場(chǎng)的共同作用下,發(fā)生 E×B 漂移,電子的運(yùn)動(dòng)軌跡被約束在靶材表面附近,形成 “電子云”。電子在 “電子云” 中運(yùn)動(dòng),增加了與氣體分子的碰撞機(jī)會(huì)。

氣體電離:向真空室內(nèi)充入適量的惰性氣體(如氬氣),電子在 “電子云” 中不斷與氬氣分子碰撞,使氬氣分子電離成 Ar?離子和新的電子,產(chǎn)生等離子體。

濺射過(guò)程:Ar?離子在電場(chǎng)作用下加速,以高能量轟擊靶材表面,使靶材原子或分子獲得足夠的能量而從靶材表面濺射出來(lái),形成氣態(tài)的靶材粒子。

薄膜沉積:濺射出的靶材原子或分子在真空環(huán)境中自由運(yùn)動(dòng),到達(dá)基底(光學(xué)元件)表面時(shí),會(huì)在表面沉積下來(lái),隨著時(shí)間的推移,這些粒子不斷聚集,逐漸形成一層均勻的光學(xué)薄膜。

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