描述：

檢測(cè)原理

采用光學(xué)表面分析(OSA)技術(shù),集成四種檢測(cè)方法:

散射測(cè)定法:通過(guò) 405nm 激光(50mW)掃描,檢測(cè)表面散射光強(qiáng)度,識(shí)別亞微米級(jí)顆粒(如 0.08μm PSL 等效缺陷)。

橢圓偏光法:分析反射光的偏振態(tài)變化,用于透明材料(如 SiC、藍(lán)寶石)的膜厚均勻性測(cè)量(精度達(dá) 5?-1000?)。

反射測(cè)量:635nm 激光(8mW)檢測(cè)鏡面反射光,評(píng)估表面粗糙度(Ra/Rq 參數(shù))和反射率差異。

光學(xué)輪廓測(cè)定:通過(guò) Z 軸形貌分析(垂直分辨率 > 2?),識(shí)別劃痕(100μm 長(zhǎng) ×0.1μm 寬 ×50? 深)、凹坑(20μm 直徑 ×50? 深)等三維缺陷。

多通道協(xié)同

四通道同步采集數(shù)據(jù):

散射光(暗場(chǎng)):高靈敏度檢測(cè)微小顆粒和表面起伏。

反射光(明場(chǎng)):評(píng)估表面平整度和反射率均勻性。

相移(相位對(duì)比):增強(qiáng)透明材料中缺陷的對(duì)比度。

Z 頻道(形貌):通過(guò)共焦或干涉技術(shù)生成三維表面輪廓。

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