描述：

工作原理

采用物理氣相沉積(PVD)的磁控濺射技術(shù):在高真空腔體內(nèi),通過磁場約束高密度等離子體,使氬離子高速轟擊靶材表面,將靶材原子 / 分子濺射出并沉積到高速旋轉(zhuǎn)的基片表面;通過精確控制濺射功率、氣體流量、基片溫度、沉積時(shí)間及光學(xué)監(jiān)控反饋,形成厚度精準(zhǔn)、致密均勻、附著力強(qiáng)的功能性薄膜。

典型應(yīng)用領(lǐng)域

光學(xué)通信:DWDM 濾光片、波分復(fù)用器、隔離器鍍膜;

消費(fèi)電子:攝像頭模組 IR-Cut 濾光片、AR/VR 鏡片增透 / 防反射膜、觸控屏 ITO 膜;

半導(dǎo)體與 MEMS:傳感器保護(hù)膜、電極膜、微鏡表面涂層;

汽車光學(xué):激光雷達(dá)窗口、車燈透鏡增透膜。

此貼長期有效，聯(lián)系我時(shí)，請說明是從處理網(wǎng)看到的。