描述：

應(yīng)用領(lǐng)域

光學(xué)器件:可用于生產(chǎn)紅外截止濾光片、分色濾光片、防反射膜(AR 膜)等。

電子與半導(dǎo)體:適用于晶體、硅片表面鍍膜,以及觸摸屏防污膜(AS 膜 / AF + AS 復(fù)合膜)的批量生產(chǎn)。

技術(shù)優(yōu)勢

高穩(wěn)定性:基板采用磁密封驅(qū)動旋轉(zhuǎn),確保膜厚分布均勻;行星式工件架可選,能適應(yīng)不同工藝需求。

自動化控制:支持全自動蒸鍍流程,包含 XTC/3 蒸鍍控制系統(tǒng)及在線阻針檢測,可減少人工干預(yù)。

高效維護(hù):標(biāo)配深冷系統(tǒng)與護(hù)板組件,有助于延長設(shè)備使用壽命;水冷需求 220L/min,兼容常規(guī)工業(yè)冷卻條件。

其他信息:電源需求為 3 相 200V/50 - 60Hz,整機(jī)功率約 80 - 120KVA,重量 11 - 12 噸。設(shè)備尺寸約為 6300mm(W)×9000mm(D)×4000mm(H)。

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