描述：

二手韓一HVC-2700離子源光學(xué)鍍膜機(jī) 電子束真空鍍膜機(jī) 電鍍機(jī)系統(tǒng)配置

鍍膜系統(tǒng)

蒸發(fā)源:標(biāo)配雙電子(E 型),可選配多位旋轉(zhuǎn)阻蒸源,支持環(huán)形坩堝設(shè)計(jì),可鍍制 100 層以上復(fù)雜膜系。

監(jiān)控與控制系統(tǒng):配備光學(xué)膜厚監(jiān)控,可實(shí)現(xiàn) 60 點(diǎn)間接監(jiān)控(反射式,波長 350-1100nm)或直接光控,同時(shí)有晶振膜厚儀(MXC-3B+6 點(diǎn)晶控)實(shí)時(shí)調(diào)控沉積速率,ACS 全自動(dòng)鍍膜系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)工藝自動(dòng)化。

輔助技術(shù):配置高離子流密度射頻離子源,如 GTHC8×2 型號,加熱系統(tǒng)可使基板最高加熱溫度達(dá)到 300-350℃。

真空與輔助系統(tǒng)

排氣系統(tǒng):采用機(jī)械泵組 + 分子泵 / 低溫泵 + 深冷捕集泵組合。

配套設(shè)施要求:電力方面,需要三相 380V/50Hz,峰值功耗約 100kW;冷卻水要求為 160L/min(0.3-0.5MPa,18-25℃)。

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