描述：

?一、核心配置與技術參數(shù)?

?項目? ?參數(shù)細節(jié)?

?真空系統(tǒng)?

- 真空室尺寸 Ф1550×1800mm(SUS304不銹鋼)

- 極限真空度 ≤7.0×10??Pa(搭載擴散泵+低溫冷凝器POLYCOLD)

- 工件架 Ф1400mm行星式/鐘罩式,轉速10-30rpm可調

?鍍膜組件?

- 離子源 23寸射頻離子源(RF離子源),提升AR/AF膜致密性與附著力13

- 蒸發(fā)源 雙電子槍 + 12穴環(huán)形坩堝,支持100層以上復雜膜系

?控制系統(tǒng)?

- 膜厚監(jiān)控 HOM2R-VIS350A光學監(jiān)控儀(波長350-1100nm)

- 工藝流程 XTC/3全自動控制系統(tǒng),集成6點式晶控傳感器

?基礎參數(shù)?

- 電源需求 三相200V/50-60Hz,容量約120KVA

- 設備重量 約11000kg

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