描述：

主要應(yīng)用

工業(yè)生產(chǎn):用于電子產(chǎn)品五金件、鐘表、首飾、皮具五金件等的表面鍍膜,可實(shí)現(xiàn)深黑色、玫瑰金等多種顏色,提升產(chǎn)品的美觀度和性能。

科研領(lǐng)域:廣泛應(yīng)用于納米和半導(dǎo)體器件等薄膜制備,幫助科研人員進(jìn)行材料研發(fā)和工藝優(yōu)化。

技術(shù)參數(shù)

不同型號(hào)的磁控鍍膜機(jī)技術(shù)參數(shù)有所差異。以米微科技的 MiWeiCK400-III 三靶磁控濺射鍍膜機(jī)為例,其鍍膜室極限真空≤6×10??Pa,基片加熱溫度可達(dá) 600°C±1°C,可放置 Φ120mm 的基片。而浙江大學(xué)的磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)腔體尺寸為 387mm 寬 ×419mm 長 ×609mm 高,靶工作壓強(qiáng)為 0.7mTorr。

設(shè)備外觀

磁控鍍膜機(jī)通常為柜式結(jié)構(gòu),主體為真空鍍膜腔室,配有真空泵、控制面板等附屬設(shè)備。

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