描述：

一、設備型號與基礎參數(shù)

?UNIVAC-1500系列?

鍍膜室尺寸:直徑1500mm(具體高度需參考廠商手冊),適用于大尺寸光學元件鍍膜?。

真空系統(tǒng):通常配置擴散泵(如K-200型,抽速1200-1500升/秒)和機械泵(2XQ-8型),極限真空度可達5×10??托。

蒸發(fā)源:支持電阻加熱或電子束蒸發(fā),功率1.5千瓦,電壓8-16伏可調。

?功能擴展?

可選配離子轟擊裝置(直流負高壓0-3000伏)和工件烘烤系統(tǒng)(碘鎢燈加熱),提升膜層附著力。

三、技術特點

?鍍膜類型?:支持光學膜(如AR濾光膜)、電學膜及裝飾性薄膜,兼容磁控濺射工藝(需選配靶材)?。

?控制方式?:電磁閥自動控制,部分型號配備工件架旋轉(30轉/分)以提升均勻性。

四、應用場景

主要用于光學鏡片、太陽能集熱管鍍膜,尤其適合耐高溫干涉膜(如Cu/SS+AlN多層結構)

此貼長期有效，聯(lián)系我時，請說明是從處理網(wǎng)看到的。