描述：

1. 光學(xué)系統(tǒng)與分辨率

光源類型:i-line 紫外光源,波長 365 nm。

數(shù)值孔徑 (NA):0.63,支持高分辨率圖案轉(zhuǎn)移。

分辨率:

標(biāo)準(zhǔn)配置下 0.4 μm(線寬與間距),適用于 0.45 μm 及以上制程節(jié)點。

部分改進(jìn)型配置可實現(xiàn) 0.35 μm 分辨率(如 NSR-2205i11D 后續(xù)版本)。

景深 (DOF):約 0.8 μm(NA 0.55 時),支持厚光刻膠或粗糙表面的曝光需求。

2. 晶圓與曝光能力

支持晶圓尺寸:

標(biāo)準(zhǔn)配置:200 mm(8 英寸),兼容 150 mm(6 英寸)及更小尺寸。

可選配置:部分設(shè)備支持 4 英寸晶圓,適用于特定工藝場景。

最大曝光場:22 mm × 22 mm,支持大視場拼接以提升效率。

步進(jìn)精度:3σ ≤ 80 nm,確保相鄰曝光區(qū)域的位置精度。

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