描述：

光源類型:

早期版本(如 Gen3):部分型號(hào)使用 350W 高壓汞燈(寬帶光,350-450nm),光強(qiáng)約 8-9 mW/cm2,均勻性≤±3%。

曝光模式:

支持真空接觸(分辨率最高)、軟接觸、硬接觸及接近式曝光,適應(yīng)不同工藝需求:

真空接觸:分辨率達(dá) 0.8μm(膠厚 1μm 時(shí)),適用于高精度圖形轉(zhuǎn)移。

軟接觸:分辨率≤2.5μm,減少晶圓與掩模版的磨損。

接近式:間距 100μm 時(shí)分辨率≤8μm,適合厚膠或三維結(jié)構(gòu)工藝。

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