描述：

二手進(jìn)口雙開門磁控鍍膜機(jī) 濺射鍍膜機(jī) 電鍍機(jī)帶靶材

工作原理關(guān)鍵:磁場(chǎng)約束電子,提升濺射效率

這是 “磁控” 與傳統(tǒng)濺射的核心區(qū)別:在靶材背部安裝磁鐵或電磁線圈,形成與電場(chǎng)垂直的磁場(chǎng)(磁力線沿靶材表面分布),其作用是 “困住” 電子:

自由電子在 “電場(chǎng)力” 作用下本應(yīng)直接飛向正極(基片 / 室壁),但磁場(chǎng)會(huì)通過 “洛倫茲力” 改變電子運(yùn)動(dòng)方向,使其沿磁力線做螺旋狀運(yùn)動(dòng);

電子的運(yùn)動(dòng)路徑被大幅延長(zhǎng),與氬氣分子的碰撞概率顯著增加,能電離出更多氬離子

同時(shí),電子不會(huì)快速轟擊基片,避免基片因電子撞擊而過熱(保護(hù)光學(xué)元件不受高溫?fù)p壞)。

4. 成膜:離子轟擊靶材,原子沉積

離子轟擊靶材:帶正電的氬離子在電場(chǎng)力加速下,以高速(約 10? m/s)垂直撞擊靶材表面;

靶材原子濺射:氬離子的動(dòng)能傳遞給靶材原子,克服靶材原子間的 “結(jié)合力”,使靶材原子(或原子團(tuán))從表面 “脫離”,形成 “濺射粒子流”;

薄膜沉積:濺射出來的靶材原子(如制備增透膜的二氧化硅、制備導(dǎo)電膜的 ITO)會(huì)沿直線飛向基片,逐漸在基片表面 “堆積”,并通過原子間的引力形成連續(xù)、致密的光學(xué)薄膜。

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