描述：

一,用途:本設備適用于玻璃、硅片、藍寶石及金屬或非金屬的研磨或拋光。

二,設備結構特點:

1.創(chuàng)新是設計的基本理念,本設備在設計時認真分析和比較了國內外同類設備的結構、控制和功能特點,綜合、歸納并采用了眾多用戶的成戲經(jīng)驗和合理建議。著力提高設備的技術含量、運行精度和運行平穩(wěn)性。

三,規(guī)格明細:

研磨上下盤尺寸:1188*618*45MM

行星輪規(guī)格:柱銷中?10;節(jié)距?19.3;齒數(shù)Z=52

放置行星輪個數(shù):3≤N≤8

研磨工件厚度:0.2MM≤B≤20MM

研磨工件最大尺寸:280MM

齒圈升降高度:45MM

上研磨盤轉速:0~44rpm

下研磨盤轉速:0~55rpm

主氣缸:160*450

升降氣缸:100*300

端鎖氣缸:50*100

主電機:YVP132M-4 7.5KW

副電機:YVP100L-4 2.2KW

機床額定功率:18KW

電源電壓:三相五線AC380V

氣源壓力:5~~6kg/ cm2

外形尺寸:2040×1540×2830 (mm)

重量:4000KW

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