描述：

適用于鐵氧體,高頻晶片,硅片,石英晶體,玻璃,陶瓷,藍(lán)寶石,密封件雙面拋光或研磨

主要用途:

? 廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、陶瓷、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、不銹鋼,光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。

工作原理:

? 本平面拋光機(jī)為精密研磨拋光設(shè)備,被磨、拋材料放于研磨盤上,研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動,修正輪帶動工件自轉(zhuǎn),重力加壓的方式對工件施壓,工件與研磨盤作相對運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦,來達(dá)到研磨拋光目的。

特點(diǎn):

? ?1.采用間隔式自動噴液裝置,可自由設(shè)定噴液間隔時間。

? ?2. ?該拋光機(jī)工件加壓采用氣缸加壓的方式,壓力可調(diào);?拋光后工件表面光亮度高、無劃傷、無料紋、無麻點(diǎn)、不塌邊、平面度高等特點(diǎn)。拋光后工件表面粗糙度可達(dá)到Ra0.0002;平面度可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。

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