描述：

日本光馳(OPTORUN)HSP-1650磁控濺射鍍膜機,這是面向高性能光學濾光片與精密光學薄膜的量產(chǎn)型 PVD 設(shè)備,自 2007 年發(fā)布、2009 年正式上市,在光學、半導體、MEMS 等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。

核心結(jié)構(gòu)與技術(shù)參數(shù)

真空與進出料系統(tǒng):配置 Load-Lock 預(yù)抽室,大幅縮短非成膜時間;主腔采用干泵 + 冷泵 / 擴散泵組合,極限真空可達 1×10?? Pa 級別,抽速快且潔凈無油污染;可實現(xiàn)基片連續(xù) / 批量裝載,適配 φ1650mm 級腔體的大面積均勻鍍膜。

濺射源配置:標準搭載 3 組圓筒型陰極(磁控靶),支持 DC 直流、RF 射頻雙模式磁控濺射;金屬模式濺射為主,配合反應(yīng)氣體(O?、Ar、N?等)可制備氧化物、氮化物等介質(zhì)膜;靶材兼容性強(金屬、合金、陶瓷等),可快速切換工藝滿足不同膜系需求。

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