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一、工作原理(RAS 核心)傳統(tǒng)反應濺射:濺射 + 氧化在同一空間,容易靶中毒、打弧、膜層疏松。RAS 工藝做**空間分離**兩步完成成膜1. 濺射區(qū):雙陰極 Dual?Cathode 濺射金屬靶,沉積金屬薄層;2. 激化反應區(qū):獨立 ICP?RF 自由基源通入氧,把金屬層充分氧化成致密氧化物薄膜;… 面議
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工作原理采用物理氣相沉積(PVD)的磁控濺射技術(shù):在高真空腔體內(nèi),通過磁場約束高密度等離子體,使氬離子高速轟擊靶材表面,將靶材原子 / 分子濺射出并沉積到高速旋轉(zhuǎn)的基片表面;通過精確控制濺射功率、氣體流量、基片溫度、沉積時間及光學監(jiān)控反饋,形成厚度精準、致密均勻、附著力強的功能性薄膜。典型應用領域光… 9.5 萬
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