描述：

光源與波長(zhǎng)

采用 i-line 準(zhǔn)分子激光(365nm),屬于深紫外(DUV)光源的一種,適合光刻 0.35μm 及以上的特征尺寸。這種波長(zhǎng)的光源成本較低且技術(shù)成熟,廣泛應(yīng)用于功率器件、傳感器、存儲(chǔ)芯片等領(lǐng)域。

數(shù)值孔徑(NA)與分辨率

最大數(shù)值孔徑為 0.63,結(jié)合 5:1 的縮小倍率,典型分辨率可達(dá) 0.35-0.4μm(不同測(cè)試條件下可能存在差異)。通過高 NA 光學(xué)系統(tǒng),該設(shè)備能夠提升成像對(duì)比度和細(xì)節(jié)還原能力,滿足成熟制程的圖形轉(zhuǎn)移需求。

曝光范圍

標(biāo)準(zhǔn)曝光場(chǎng)為 22mm × 22mm,支持 5 英寸或 6 英寸掩模版(Reticle),可通過縮小倍率實(shí)現(xiàn)高精度圖案轉(zhuǎn)移。這種設(shè)計(jì)適用于中小尺寸芯片的批量生產(chǎn),例如微處理器、存儲(chǔ)器等。

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